【Geminiに聞きました】日本の半導体関連製品ナシで中国は高性能半導体を作れますか？

結論から申し上げますと、現時点および近い将来において、日本の半導体関連製品（特に素材と特定の製造装置）なしで、中国が高性能半導体を「量産」することは極めて困難（事実上不可能）です。

中国は「レガシー半導体（古い世代のチップ）」の自給自足は進めていますが、スマートフォンやAIに使われるような「高性能（最先端）半導体」においては、日本が持つ「チョークポイント（急所）」を回避できていないためです。

主な理由は以下の3点です。

半導体製造には数百種類の工程がありますが、その中で日本企業が世界シェアの70〜90％以上を握る不可欠な化学材料が存在します。これらが供給されないと、最先端の工場でも稼働が停止します。

フォトレジスト（感光材）： 回路を焼き付けるために必須の液体。
- 日本シェア：約90％（JSR、東京応化工業、信越化学など）
- 特に最先端の「EUV」や「ArF」用レジストは日本企業の独壇場です。中国製への代替は品質と歩留まり（良品率）の面でまだ実用レベルに至っていません。
シリコンウェハ： 半導体の土台となる円盤。
- 日本シェア：約60％（信越化学、SUMCO）
- 高純度で欠陥のないウェハの量産技術において、日本は圧倒的です。

オランダのASML社が作る「露光装置（数百億円する機械）」が有名ですが、その露光装置とセットで必ず使わなければならない装置（コーター・デベロッパ）においても日本が支配的です。

コーター・デベロッパ（塗布現像装置）： ウェハに薬液を塗り、現像する装置。
- 東京エレクトロンのシェア：世界約90％（EUV用はほぼ100%）
- ASMLの露光機を手に入れても、東京エレクトロンのこの装置が隣になければ、最先端プロセスは機能しません。

最近、中国（HuaweiやSMIC）が7nm（ナノメートル）プロセスの半導体製造に成功したというニュースがありましたが、これには「からくり」があります。

在庫と流用の限界： 規制前に購入した装置（オランダや日本などの製）や、在庫の素材を駆使して製造していると見られています。
コストと歩留まり： 最適な最新装置や素材を使えないため、無理やり古い装置を多重露光（マルチパターニング）で使っているとされ、生産効率が悪く、コストが非常に高いと言われています。「作れる」ことと「安価に大量生産できる（ビジネスになる）」ことは別問題です。

分野	日本なしでの中国の製造可能性	状況
レガシー半導体 (家電・車載など)	可能	中国国内メーカー（NauraやAMECなど）の装置で代替が進んでおり、自給体制を整えつつあります。
高性能半導体 (スマホ・AI・PC)	不可能 (量産レベル)	フォトレジストと塗布現像装置の代替が最大の壁です。これらを日本以外（または自国）で調達する目処は立っていません。

結論： 日本が素材と装置の供給を完全にストップした場合、中国の最先端半導体工場は、在庫が尽き次第、稼働できなくなります。これが現在、日米蘭が連携して輸出規制を行っている背景にある「日本の強み」です。

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