2025_06_30
加速器で半導体を「露光」、消費電力9割減　高エネ研35年に実用機 - 日本経済新聞

【AIによる記事の要約】
以下が記事の要点です：
高エネルギー加速器研究機構（KEK）は、半導体の「露光工程」に加速器を使う新技術を開発中。
現行のEUV（極端紫外線）露光技術はオランダASMLの装置に依存し、消費電力が大きく効率も低い（約0.02％）。
KEKの技術は電子を光速近くに加速し、強力なEUVを発生させ、消費電力を1/10に削減できる見込み。
2035年に実用機の導入を目指し、2029年度までに主要装置を開発予定。
日本は研究面で先行するも、米国のxLight社は2028年に実用機開発を目指しており、実用化の遅れが懸念される。
EUV露光は最先端の1ナノ以下の半導体製造に不可欠で、日本の技術進展次第では再び主導権を握る可能性あり。
今後は産学連携による早期の実用化が鍵。
もしこの技術が順調に進めば、日本の半導体産業再興にとって大きな一歩になるかもしれませんね。